गेट भल्भको इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रियाको सिद्धान्त छलफल गरिएको छ

गेट भल्भको इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रियाको सिद्धान्त छलफल गरिएको छ

कोबाल्ट आधार मिश्र धातु स्प्रे वेल्डिंगमा पावर प्लान्ट भल्भ बडीहरू क्र्याकिंगको मुख्य कारण सामान्यतया उच्च भल्भ कठोरता हो। वेल्डिङ सञ्चालनमा, चापले घुलनशीलता पोखरी उत्पन्न गर्छ, जसले वेल्डिङ स्थितिलाई पग्लन्छ र न्यानो बनाउँछ, र वेल्डिङ पछि तापक्रम द्रुत रूपमा घट्छ, र पिघलाएको धातुले वेल्डिङ उत्पादन गर्न कन्डेन्स गर्छ। यदि ताप तापक्रम कम छ भने, वेल्डिङ तहको तापक्रम छिटो घटाउनुपर्छ। वेल्डिङ तहको द्रुत शीतलताको आधारमा, वेल्डिङ तहको संकुचन दर भल्भ शरीरको संकुचन दर भन्दा छिटो छ। यस्तो तनावको कार्य अन्तर्गत, वेल्डिंग तह र मूल सामग्रीले तुरुन्तै आन्तरिक तन्य तनाव बनाउँछ, र वेल्डिंग तह दरार हुन्छ। पावर स्टेशन भल्भको काम गर्ने अवस्था सामान्यतया 540¡æ उच्च तापक्रम स्टीम हुन्छ, त्यसैले गेट भल्भको मुख्य सामग्री 25 वा 12crmov, भल्भ बडी हो। पावर स्टेशन भल्भको काम गर्ने अवस्था सामान्यतया 540¡æ उच्च तापक्रम स्टीम हुन्छ, त्यसैले गेट भल्भको मुख्य सामाग्री 25 वा 12crmov हो, र भल्भ बडी स्प्रे वेल्डिङको कच्चा पदार्थ कोबाल्ट-बेस मिश्र d802(sti6) वेल्डिङ तार हो।
d802 ले edcocr -A लाई gb984 स्पेसिफिकेशन मा मिल्छ, जुन aws मा ercocr -A को बराबर छ।
d802 कच्चा माल उत्कृष्ट पहिरन प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध, अक्सीकरण प्रतिरोध, जंग प्रतिरोध र cavitation प्रतिरोध संग, अल्ट्रा-उच्च दबाव र उच्च तापमान काम देखि लगातार खोल्न र बन्द गर्न सकिन्छ।
Aws स्पेसिफिकेशनमा ErCoCr-A इलेक्ट्रोड र फिलर तार क्लेडिंगको वेल्ड मेटल कोक्रोमियम-टंगस्टन आयन क्रिस्टल सब्सट्रेटमा वितरित करिब 13% क्रोमियम सिमेन्टाइट युटेक्टिक नेटवर्क समावेश भएको सब्युटेक्टिक मेकानिज्म द्वारा विशेषता हो। नतिजा कच्चा मालको कम तनाव क्षतिको प्रतिरोध र निश्चित प्रकारको प्रक्रिया प्रवाहको प्रभावको प्रतिरोध गर्न आवश्यक कठोरताको एक उत्तम मिश्रण हो।
कोबाल्ट मिश्र धातुसँग राम्रो प्रतिरोध छ - धातुको पहिरन, विशेष गरी उच्च लोड अन्तर्गत स्क्र्याच प्रतिरोध।
सब्सट्रेटमा बलियो मिश्र धातु संरचनाले राम्रो जंग प्रतिरोध र ओक्सीकरण प्रतिरोध प्रदान गर्न सक्छ।
जब कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातुको पग्लिएको धातु तातो अवस्थामा हुन्छ (650¡æ भित्र), यसको बल उल्लेखनीय रूपमा घट्दैन। तापक्रम 650¡æ भन्दा माथि बढेमा मात्र यसको बल उल्लेखनीय रूपमा घट्छ। जब तापमान सामान्य तापमान अवस्थामा फर्कन्छ, यसको बल प्रारम्भिक कठोरतामा फर्किनेछ।
वास्तवमा, जब मूल सामग्रीले पोस्ट-वेल्डिंग गर्मी उपचार गर्दछ, सतह प्रदर्शन क्षति गर्न सजिलो छैन। पावर स्टेशनको भल्भलाई आर्क वेल्डिङद्वारा हाई प्रेसर गेट भल्भ फेस बनाउन भल्भ बडीको बीचको प्वालमा कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातुले स्प्रे गर्नुपर्छ। अनुहार भल्भ बडीको बीचको प्वालको गहिरो भागमा भएको हुनाले, स्प्रे वेल्डिङले वेल्डिङ नडल र क्र्याक जस्ता दोषहरू निम्त्याउने सम्भावना बढी हुन्छ।
उथले प्वाल स्प्रे वेल्डिंग d802 को प्रक्रिया परीक्षण आवश्यक अनुसार नमूनाहरू उत्पादन र प्रशोधन गरेर गरिएको थियो। सजिलो विचलनको कारण प्रक्रिया परीक्षण लिङ्कमा फेला परेको छ।
¢Ù वेल्डिङ सामग्री सतह वातावरणीय प्रदूषण।
¢Ú वेल्डिङ सामग्रीले नमी अवशोषित गर्दछ।
¢Û मूल सामग्री र फिलर धातुमा अधिक अशुद्धता र तेल दागहरू छन्।
¢Ü विद्युतीय वेल्डिङ (विशेष गरी dn32 ~ 50mm) द्वारा भल्भ बडीको वेल्डिङ स्थिति कठोरता ठूलो हुन्छ।
(5) तताउने र पोस्ट-वेल्डिङ ताप उपचारको प्राविधिक मानक अव्यावहारिक छ।
वेल्डिङ प्रक्रिया उचित छैन।
¢ß वेल्डिंग सामग्री चयन अनुचित छ। कोबाल्ट आधार मिश्र धातु स्प्रे वेल्डिंगमा पावर प्लान्ट भल्भ बडीहरू क्र्याकिंगको मुख्य कारण सामान्यतया उच्च भल्भ कठोरता हो। वेल्डिङ सञ्चालनमा, चापले घुलनशीलता पोखरी उत्पन्न गर्छ, जसले वेल्डिङ स्थितिलाई पग्लन्छ र न्यानो बनाउँछ, र वेल्डिङ पछि तापक्रम द्रुत रूपमा घट्छ, र पिघलाएको धातुले वेल्डिङ उत्पादन गर्न कन्डेन्स गर्छ। यदि ताप तापक्रम कम छ भने, वेल्डिङ तहको तापक्रम छिटो घटाउनुपर्छ। वेल्डिङ तहको द्रुत शीतलताको आधारमा, वेल्डिङ तहको संकुचन दर भल्भ शरीरको संकुचन दर भन्दा छिटो छ। यस्तो तनावको कार्य अन्तर्गत, वेल्डिंग तह र मूल सामग्रीले तुरुन्तै आन्तरिक तन्य तनाव बनाउँछ, र वेल्डिंग तह दरार हुन्छ। वेल्डिङ स्थितिहरू उत्पादन गर्दा बेभल कोणहरू निषेधित हुनुपर्छ।
ताप तापमान धेरै कम छ, र गर्मी वेल्डिंग सञ्चालन समयमा छिटो जारी छ।
ठोस तह तापमान धेरै कम छ, वेल्डिंग तह प्रशीतन गति स्प्रे वेल्डिंग कच्चा माल लागि धेरै छिटो छ।
वेल्डिङ सामाग्री कोबाल्ट बेस मिश्र आफैंमा उच्च रातो कठोरता छ, 500 ~ 700¡æ मा काम गर्दा, बल 300 ~ 500hb कायम राख्न सक्छ, तर यसको लचकता कम छ, क्र्याक प्रतिरोध कमजोर छ, क्रिस्टल दरार वा चिसो दरारहरू उत्पादन गर्न सजिलो छ, त्यसैले यसलाई वेल्डिङ अघि तताउन आवश्यक छ।
ताप तापमान workpiece को आकार मा निर्भर गर्दछ, र सामान्य तताउने दायरा 350-500¡æ छ।
ओसिलो अवशोषण रोक्न वेल्डिङ गर्नु अघि वेल्डिङ इलेक्ट्रोड कोटिंगलाई अक्षुण्ण राख्नुपर्छ।
वेल्डिङको समयमा, केकलाई 150¡æ मा 1 घण्टाको लागि बेक गरिन्छ र त्यसपछि वेल्डिङको तार इन्सुलेशन सिलिन्डरमा हालिन्छ।
शैलो होल स्प्रे वेल्डिङ वेल्डको आर्क r कोण सम्भव भएसम्म ठूलो हुनुपर्छ, सामान्यतया r¡Ý3mm, यदि प्रक्रियाले अनुमति दिन्छ।
dn10 ~ 25mm क्यालिबर भल्भ बडीलाई उथले प्वालको फेदबाट वेल्डिङ तारको साथ वेल्ड गर्न सकिन्छ, ठोस तहको तापक्रम ¡Ý250*(2, चापको बीचमा, चापदेखि ढिलो गतिमा उल्लेख गरिएको वेल्डिङ तार।
उत्पादनको वर्कपीसलाई वेल्डिङ गर्नुअघि भट्टी (250¡æ) देखि 350 10 20¡æ मा तताइएको थियो। तातो इन्सुलेशनको 1.5 घण्टा पछि, वेल्डिंग गरिएको थियो।
एकै समयमा ठोस तहको तापक्रम ¡Ý250c नियन्त्रण गर्नुहोस्, वेल्डिङको दागको सबै छेउमा वेल्डिङ स्प्रे गर्नुहोस्। वेल्डिङ पछि, तातो इन्सुलेशन र इन्सुलेशनको लागि भल्भ बडी तुरुन्तै भट्टी (450¡æ) मा हाल्नु पर्छ। जब ब्याचको तापक्रम वा फर्नेसको वेल्डिङको तापक्रम 710¡À20¡æमा निभाइन्छ, तातो इन्सुलेशन र इन्सुलेशनलाई 2 घण्टाको लागि राखिन्छ र त्यसपछि भट्टीमा फ्रिजमा राखिन्छ। जब तापक्रम नियन्त्रण dn 32mm भन्दा बढी हुन्छ, कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातुको वेल्डिंग स्प्रे गरेपछि धेरै कठोरताको कारणले गर्दा असमान लोचको समस्या समाधान गर्न पहिले भल्भ बडीलाई au आकारमा वेल्डेड गर्नुपर्छ। स्प्रे वेल्डिङ सञ्चालन गर्नु अघि, उत्पादन workpiece सफा गरिन्छ, उत्पादन workpiece भट्टी मा राखिएको छ (तापमान नियन्त्रण 250¡æ), 450 ~ 500¡æ मा तातो, तातो इन्सुलेशन र 2 घण्टा सम्म होल्ड, र वेल्डिंग घोषणा गरिएको छ। ।
पहिले, कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातु वेल्डिङ तारको साथ सतहमा वेल्ड स्प्रे गर्नुहोस्, र प्रत्येक तहको दाग वेल्डिंग समाप्त गर्नुहोस्। एकै समयमा, तहहरू ¡Ý250¡æ बीचको तापक्रम नियन्त्रण गर्नुहोस्, र सबै अन्त्य पछि दागलाई वेल्ड गर्नुहोस्।
त्यसपछि मार्टेन्सिटिक स्टेनलेस स्टील तार (उच्च cr, ni सापेक्ष सामग्री स्टेनलेस स्टील तार) लाई U-आकारको वेल्ड वेल्ड गर्न बदल्नुहोस्। भल्भ बडीको इलेक्ट्रिक वेल्डिङ पूरा भएपछि, यसलाई तातो इन्सुलेशन र तातो संरक्षणको लागि तुरुन्तै (450¡æ) भट्टीमा हालिनेछ। यस ब्याच वा फर्नेसको विद्युतीय वेल्डिङ पूरा भएपछि, निभाउनको लागि तापक्रम 720¡À20¡æ मा बढाइनेछ।
ताप दर 150¡æ/h छ, र तातो इन्सुलेशन 2 घण्टाको लागि राखिएको छ।
इलेक्ट्रोप्लेटिंग ट्याङ्कीले दुई बिजुली स्तरहरू समावेश गर्दछ, क्याथोडको रूपमा सामान्य उत्पादन वर्कपीस, दुई पक्षहरू बीच इलेक्ट्रोस्टेटिक क्षेत्रको निर्माण पछि पावर पहुँच स्विच गर्दै, क्याथोड स्थानान्तरणमा इलेक्ट्रोस्ट्याटिक क्षेत्र धातु आयनहरू वा thiocyanogen रूटको प्रभाव अन्तर्गत, र क्याथोड सतहको नजिक। तथाकथित दोहोरो तह उत्पादन गर्न, यस अवस्थामा, क्याथोड वरपरको आयन सांद्रता क्याथोडलाई बेवास्ता गर्ने क्षेत्रमा भन्दा सानो हुन्छ, जसले लामो दूरीको आयन स्थानान्तरण हुन सक्छ।
धातु सकारात्मक आयनहरू वा thiocyanogen जटिल आयनहरूको रिलीज द्वारा जारी, डबल तह अनुसार र धातु अणुहरू गठन गर्न अक्सीकरण प्रतिक्रिया उत्पन्न गर्न क्याथोड सतहमा आइपुग्छ।
Electroplating प्रक्रिया इलेक्ट्रोप्लेटिंग इतिहास अपेक्षाकृत प्रारम्भिक छ, अनुसन्धान र विकास को शुरुवात मा सतह उपचार प्रक्रिया मुख्य रूप देखि मान्छे को जंग रोकथाम र आभूषण पूरा गर्न को लागी छ।
हालका वर्षहरूमा, औद्योगीकरण र विज्ञान र प्रविधिको विकासको साथ, नयाँ उत्पादन प्रक्रियाहरूको निरन्तर विकास, विशेष गरी केहि नयाँ कोटिंग सामग्री र कम्पोजिट प्लेटिङ टेक्नोलोजीको उदयले सतह उपचार प्रक्रियाको आवेदन क्षेत्रलाई धेरै विस्तार गरेको छ, र यसलाई बनाइएको छ। सतह ईन्जिनियरिङ् डिजाइन को एक अपरिहार्य भाग।
इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रिया धातु इलेक्ट्रोडपोजिसन टेक्नोलोजीहरू मध्ये एक हो। यो इलेक्ट्रोलाइसिस द्वारा ठोस सतहमा धातु एल्युभियम प्राप्त गर्ने प्रक्रिया हो। यसको उद्देश्य ठोस कच्चा मालको सतह विशेषताहरू परिवर्तन, उपस्थिति सुधार, जंग प्रतिरोध, पहिरन प्रतिरोध र घर्षण प्रतिरोध, वा विशेष संरचना विशेषताहरु संग धातु cladding तयार गर्न को लागी छ। अद्वितीय विद्युतीय, चुम्बकीय, अप्टिकल, थर्मल र अन्य सतह विशेषताहरू र अन्य प्रक्रिया गुणहरू दिनुहोस्।
सामान्यतया, क्याथोडमा धातु इलेक्ट्रोडपोजिसनको प्रक्रिया निम्न प्रक्रियाहरूबाट बनेको हुन्छ1) लिथियम ब्याट्री इलेक्ट्रोलाइटमा प्रि-प्लेटेड सकारात्मक आयनहरू वा तिनीहरूको थायोस्यानोजेन जराहरूको ताप स्थानान्तरण प्रक्रिया क्याथोड (उत्पादन कार्य टुक्रा) सतह वा एकाग्रता भिन्नताको कारण स्थानान्तरणको सतहमा।2) धातु सकारात्मक आयनहरूको सतह रूपान्तरण प्रक्रिया वा तिनीहरूको thiocyanogen जरा विद्युत स्तरको सतहमा र तरल तहमा अक्सीकरण प्रतिक्रिया प्रक्रियाको सतह नजिकैको तरल तहमा, जस्तै thiocyanogen ligand को रूपान्तरण वा समन्वय संख्याको कमी।3) धातुको अणुहरूमा इलेक्ट्रोनहरू प्राप्त गर्न क्याथोडमा धातु आयनहरू वा थायोस्यानोजेनलाई फोटोकैटालिटिक प्रक्रिया 4) नयाँ चरण गठन प्रक्रिया जुन नयाँ चरण बनाउन हो, जस्तै धातु वा एल्युमिनियम मिश्र धातुको गठन। इलेक्ट्रोप्लेटिंग ट्याङ्कीले २ बिजुली स्तरहरू समावेश गर्दछ, क्याथोडको रूपमा सामान्य उत्पादन वर्कपीस, दुई पक्षहरू बीचको इलेक्ट्रोस्टेटिक क्षेत्रको निर्माण पछि बिजुली आपूर्ति पहुँच स्विच गर्दै, क्याथोड स्थानान्तरणमा इलेक्ट्रोस्ट्याटिक क्षेत्र धातु आयन वा थायोस्यानोजेन रूटको प्रभावमा, र क्याथोडको नजिक। तथाकथित डबल तह उत्पादन गर्न सतह, त्यसपछि क्याथोड वरपरको आयन एकाग्रता क्याथोडबाट बच्नको लागि क्षेत्रमा आयन एकाग्रता भन्दा कम छ, यसले आयनहरूको लामो-दूरी स्थानान्तरण गर्न सक्छ।
धातु सकारात्मक आयनहरू वा thiocyanogen जटिल आयनहरूको रिलीज द्वारा जारी, डबल तह अनुसार र धातु अणुहरू गठन गर्न अक्सीकरण प्रतिक्रिया उत्पन्न गर्न क्याथोड सतहमा आइपुग्छ।
क्याथोड सतहमा प्रत्येक बिन्दुमा सकारात्मक आयनहरूको चार्ज र डिस्चार्जको कठिनाई समान छैन। क्रिस्टलको नोड र तीव्र कोणमा, वर्तमान तीव्रता र इलेक्ट्रोस्टेटिक कार्य क्रिस्टलको अन्य स्थानहरू भन्दा धेरै ठूलो छ। एकै समयमा, क्रिस्टल नोड र तीव्र कोण मा स्थित आणविक असंतृप्त फ्याट उच्च सोखन क्षमता छ। र यहाँ यस साइटमा चार्ज र डिस्चार्जले धातुमा अणुहरूको जाली स्थिरता बनाउँछ। यस सकारात्मक आयनको मनपर्ने चार्जिंग र डिस्चार्ज साइट लेपित धातु क्रिस्टलको आँखा हो।
क्रिस्टलको साथ आँखाहरू विस्तार गर्दा, बाह्य आर्थिक सीढीद्वारा जोडिएको मोनाटोमिक वृद्धिको तह बनाइन्छ। किनकि क्याथोड धातुको जाली स्थिर सतहमा जाली स्थिर बलहरूद्वारा फराकिलो जमीनको तनाव हुन्छ, क्याथोड सतहमा बिस्तारै जोडिएका परमाणुहरूले सब्सट्रेट धातु (क्याथोड) को आणविक संरचनाको साथ निरन्तर रहने भाग मात्र ओगट्छन्, भिन्नताको पर्वाह नगरी। जाली स्थिर ज्यामिति र सब्सट्रेट धातु र कोटिंग धातु बीचको विशिष्टताहरूमा। यदि कोटिंग धातुको आणविक संरचना सब्सट्रेट भन्दा धेरै फरक छ भने, विकास क्रिस्टलाइजेशन फाउन्डेशनको आणविक संरचना जस्तै हुनेछ, र त्यसपछि बिस्तारै यसको आफ्नै अपेक्षाकृत स्थिर आणविक संरचनामा परिवर्तन हुनेछ। इलेक्ट्रोल्युभियमको आणविक संरचना संचित धातुको क्रिस्टलोग्राफिक विशेषताहरूमा निर्भर गर्दछ, र संगठनात्मक संरचना एक निश्चित हदसम्म इलेक्ट्रोक्रिस्टलाइजेशन प्रक्रियाको पूर्व शर्तहरूमा निर्भर गर्दछ। एल्युभियमको कम्प्याक्टनेस पूर्णतया आयन एकाग्रतामा निर्भर गर्दछ, वर्तमान आदानप्रदान र सतह सर्फैक्टेन्ट, र इलेक्ट्रोक्रिस्टलको क्रिस्टल आकार धेरै हदसम्म सतह सर्फेक्टन्ट एकाग्रतामा निर्भर गर्दछ।
दुई, सिंगल मेटल प्लेटिङ प्रक्रिया सिंगल मेटल प्लेटिङले एकल मेटल कोटिंग विधि बनाउन प्लेटिङ गरेपछि मात्र एक प्रकारको धातु आयनहरू भएको प्लेटिङ समाधानलाई जनाउँछ।
साधारण एकल धातु प्लेटिङ प्रक्रियाहरूमा मुख्यतया तातो डुबकी ग्याल्भनाइजिंग, तामा प्लेटिङ, निकल प्लेटिङ, स्टेनलेस स्टील प्लेटिङ, टिन प्लेटिङ र टिन प्लेटिङ, आदि समावेश छन्, जुन केवल इस्पात भागहरू र अन्य विरोधी जंगको रूपमा प्रयोग गर्न सकिँदैन, तर कार्य पनि छ। सजावट डिजाइन को र malleability को विशेषताहरु सुधार।
जस्ताको मानक इलेक्ट्रोड क्षमता -0.76v हो। स्टील सब्सट्रेट को लागी, जस्ता कोटिंग एक subanodic ऑक्सीकरण कोटिंग हो, जो मुख्य रूप देखि इस्पात को जंग जोगिन प्रयोग गरिन्छ। Electrogalvanizing प्रक्रिया दुई कोटिमा विभाजन गरिएको छ: भौतिक तातो डुबकी ग्याल्भेनाइजिंग र साइनाइड बिना तातो डुबकी ग्याल्भेनाइजिंग।
भौतिक तातो डुबकी ग्याल्वनाइजिंग जलीय घोल, चिल्लो र नाजुक कोटिंग, फराकिलो प्रयोगमा राम्रो प्लेटिङ प्रकार्य द्वारा विशेषता हो, प्लेटिङ समाधान माइक्रो साइनाइड, कम साइनाइड, मध्यम साइनाइड र उच्च साइनाइड धेरै वर्गहरूमा विभाजित छ।
तर पदार्थ विषाक्त भएकोले, हालका वर्षहरूमा माइक्रो साइनाइड र साइनाइड प्लेटिङ समाधान छैन।
साइनाइड-रहित प्लेटिङ समाधानमा एसिड जस्ता फस्फेट प्लेटिङ समाधान, नुन प्लेटिङ समाधान, पोटासियम थायोसाइनेट प्लेटिङ समाधान र हिङ्गेलेस फ्लोराइड प्लेटिङ समाधान समावेश छ।
1. आंशिक क्षार तातो डुबकी गैल्भेनाइजिंग कोटिंग क्रिस्टल ठीक, राम्रो चमक, प्लेटिङ समाधान स्तर र गहिरो प्लेटिङ क्षमता राम्रो छ, वर्तमान तीव्रता र तापमान दायरा को उपयोग को अनुमति दिनुहोस् प्रणाली मा फराकिलो, सानो जंग छ।
यो जटिल इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रिया र 120¦Ìm माथि कोटिंग मोटाई भएका भागहरूको लागि उपयुक्त छ, तर हालको प्लेटिङ समाधानको बल अपेक्षाकृत कम र विषाक्त छ।
प्लेटिङ समाधान कन्फिगरेसन र प्लेटिङ प्रक्रियामा निम्न पक्षहरूमा ध्यान दिनुपर्छ: 1} प्लेटिङ समाधानमा प्रत्येक कम्पोनेन्टको एकाग्रतालाई कडाइका साथ नियन्त्रण गर्नुहोस्।
हाई साइनाइड हट-डिप ग्याल्भेनाइज्ड वाटर सोल्युशनको प्रत्येक कम्पोनेन्टको कन्सन्ट्रेशन मान (मोल/एल} लाई :2 मा राख्नुपर्छ) बाथमा रहेको घोल, सोडियम हाइड्रोक्साइड र ग्यास सम्बन्धित अवयवहरूमा ध्यान दिनुहोस्।
जब सल्फाइड संरचना 50 ~ 100g/L भन्दा बढी हुन्छ, प्लेटिङ समाधानको चालकता कम हुन्छ, र anodic oxidation passivation उपचार फ्रिजिङ विधिमा प्रयोग गर्नुपर्छ (रेफ्रिजरेसन तापमान -5¡æ छ, अवधि 8h भन्दा माथि छ, पोटासियम। कार्बोनेट एकाग्रता मान 30 ~ 40g/L मा घटाइएको छ)। वा आयन एक्सचेन्ज विधि (प्लेटिंग समाधानमा सोडियम कार्बोनेट वा बेरियम हाइड्रोक्साइड जम्मा गरेर) उपचार गर्न। 3) कोल्ड रोल्ड स्टिल प्लेटको एनोडिक अक्सिडेशन अनुप्रयोग (99.97% को जस्ता सामग्री) ले एनोडिक ओक्सीकरण आस्तीनमा ध्यान दिनुपर्छ, प्लेटिङ समाधानमा तैरिरहेको एनोड माटोबाट बच्न, ताकि कोटिंग चिकनी छैन।
4) अवशेषहरूमा भौतिक हट-डिप ग्याल्भेनाइज्ड समाधानको संवेदनशीलता अपेक्षाकृत सानो छ, र यसको स्वीकार्य सामग्री हो: तामा 0.075 — 0.2g/L, लीड 0.02 — 0.04g/L, 0.05 — 0.15g/L, टिन 0.05 — 0.15 g/L, क्रोमियम 0.015 — 0.025g/L, फलामको 0.15g/L¡¤ प्लेटिङ घोलमा रहेको अशुद्धतालाई निम्न तरिकाले समाधान गर्न सकिन्छ: १२.५-३g/L सोडियम सल्फाइड थप्नुहोस्, जसले गर्दा यसले फलामको साथ सल्फाइड अवक्षेपण बनाउन सक्छ। सीसा र अन्य प्रमुख धातु सकारात्मक आयनहरू हटाउनका लागि: थोरै जस्ता पाउडर थप्नुहोस्, ताकि तामा र सीसा हटाउनको लागि ट्याङ्कीको फेदमा प्रतिस्थापन गर्न सकिन्छ: समाधान पनि प्लग गर्न सकिन्छ, क्याथोड हालको बल ०.१-०.२ A/cm2 हो।
२ आंशिक क्षार जस्ता फस्फेट तातो डुबकी ग्याल्भेनाइज्ड आंशिक क्षार जस्ता एसिड औँ तातो डिप ग्याल्भेनाइज्ड बाथ संरचना सरल, प्रयोग गर्न सजिलो, राम्रो र उज्यालो कोटिंग छ, कोटिंग फिक्का गर्न सजिलो छैन, प्रणालीको सानो जंग, ढल उपचार पनि धेरै सजिलो छ।
तर समरूप प्लेटिङ स्तरको प्लेटिङ समाधान र प्लेटिङ समाधान भन्दा गहिरो प्लेटिङ क्षमता कमजोर छ, वर्तमान तीव्रता कम छ (70% ~ 80%), एक निश्चित मोटाई लचीलापन सुधार मा कोटिंग।