دەرۋازا كلاپانىنىڭ ئېلېكترلىشىش جەريانى پرىنسىپى مۇزاكىرە قىلىنغان

دەرۋازا كلاپانىنىڭ ئېلېكترلىشىش جەريانى پرىنسىپى مۇزاكىرە قىلىنغان

كوبالت ئاساسى قېتىشمىلىق پۈركۈش كەپشەرلەشتە ئېلېكتر ئىستانسىسىنىڭ كلاپان گەۋدىسىنىڭ يېرىلىپ كېتىشىدىكى ئاساسلىق سەۋەب ئادەتتە يۇقىرى كلاپاننىڭ قاتتىقلىقى. كەپشەرلەش مەشغۇلاتىدا ، ئەگمە ئېرىتىش كۆلچىكى ھاسىل قىلىدۇ ، بۇ كەپشەرلەش ئورنىنى داۋاملىق ئېرىتىدۇ ۋە قىزىتىدۇ ، كەپشەرلىگەندىن كېيىن تېمپېراتۇرا تېز تۆۋەنلەيدۇ ، ئېرىتىلگەن مېتال قويۇقلىشىپ كەپشەرلەيدۇ. ئەگەر ئىسسىنىش تېمپېراتۇرىسى تۆۋەن بولسا ، كەپشەرلەش قەۋىتىنىڭ تېمپېراتۇرىسىنى چوقۇم تېز تۆۋەنلىتىش كېرەك. كەپشەرلەش قەۋىتىنى تېز سوۋۇتۇش ئالدىنقى شەرتى ئاستىدا ، كەپشەرلەش قەۋىتىنىڭ تارىيىش نىسبىتى كلاپان گەۋدىسىنىڭ تارىيىش سۈرئىتىدىن تېز بولىدۇ. بۇ خىل بېسىمنىڭ تەسىرىدە ، كەپشەرلەش قەۋىتى ۋە ئەسلى ماتېرىيال تېزلىكتە ئىچكى جىددىيلىك بېسىمىنى شەكىللەندۈرىدۇ ، كەپشەرلەش قەۋىتى يېرىلىدۇ. ئېلېكتر ئىستانسىسى كلاپانىنىڭ خىزمەت ھالىتى ئادەتتە 540¡æ يۇقىرى تېمپېراتۇرا پار ، شۇڭا دەرۋازا كلاپانىنىڭ ئاساسلىق ماتېرىيالى 25 ياكى 12crmov ، كلاپان گەۋدىسى .. ئېلېكتر ئىستانسىسى كلاپاننىڭ خىزمەت ئەھۋالى ئادەتتە 540¡æ يۇقىرى تېمپېراتۇرا پار ، شۇڭا دەرۋازا كلاپانىنىڭ ئاساسلىق ماتېرىيالى 25 ياكى 12crmov ، كلاپان گەۋدىسى پۈركۈش كەپشەرلەشنىڭ خام ماتېرىيالى كوبالت ئاساسى قېتىشمىلىق d802 (sti6) كەپشەرلەش سىمى.
d802 gb984 ئۆلچىمىدىكى edcocr -A بىلەن ماس كېلىدۇ ، بۇ aws دىكى ercocr -A غا باراۋەر.
دەرىجىدىن تاشقىرى يۇقىرى بېسىم ۋە يۇقىرى تېمپېراتۇرا خىزمىتىدىن d802 خام ئەشيانى ئۈزلۈكسىز ئاچقىلى ۋە تاقىغىلى بولىدۇ ، ئېسىل ئۇپراشقا قارشى تۇرۇش ، تەسىرگە قارشى تۇرۇش ، ئوكسىدلىنىشقا قارشى تۇرۇش ، چىرىشكە چىداملىق ۋە كاۋاكقا چىداملىق.
Aws ئۆلچىمىدە ErCoCr-A ئېلېكترود ۋە تولدۇرغۇچى سىم بىلەن ئورالغان كەپشەرلەنگەن مېتال Cochromium-tungsten ئىئون خرۇستال تارماق ئېغىزىدا تارقىتىلغان تەخمىنەن% 13 خروم سېمونت تاش ئېلېكتر تورىدىن تەركىب تاپقان تارماق مېخانىزم بىلەن خاراكتېرلىنىدۇ. نەتىجىدە خام ئەشيانىڭ تۆۋەن بېسىمنىڭ بۇزۇلۇشىغا قارشى تۇرۇش ئىقتىدارى ۋە بىر قىسىم جەريان ئېقىمىنىڭ تەسىرىگە قارشى تۇرۇش ئۈچۈن كېرەكلىك قاتتىقلىقنىڭ مۇكەممەل ئارىلاشمىسى.
كوبالت قېتىشمىسىنىڭ مېتالغا قارشى تۇرۇش ئىقتىدارى ياخشى - مېتال ئۇپراش ، بولۇپمۇ يۇقىرى يۈك ئاستىدا سىزىلىشقا چىداملىق.
تارماق ئېلېمېنتتىكى كۈچلۈك قېتىشما تەركىب تېخىمۇ ياخشى چىرىشكە قارشى تۇرۇش ۋە ئوكسىدلىنىشقا قارشى تۇرۇش ئىقتىدارى بىلەن تەمىنلەيدۇ.
كوبالتنى ئاساس قىلغان قېتىشما ئېرىتىلگەن مېتال ئىللىق ھالەتتە بولغاندا (650¡æ ئىچىدە) ، ئۇنىڭ كۈچى كۆرۈنەرلىك تۆۋەنلىمەيدۇ. تېمپېراتۇرا 650¡æ دىن يۇقىرى ئۆرلىگەندىلا ، ئۇنىڭ كۈچى كۆرۈنەرلىك تۆۋەنلەيدۇ. تېمپېراتۇرا نورمال تېمپېراتۇرا ھالىتىگە قايتقاندا ، ئۇنىڭ كۈچى دەسلەپكى قاتتىقلىققا قايتىدۇ.
ئەمەلىيەتتە ، ئەسلى ماتېرىيال كەپشەرلەشتىن كېيىنكى ئىسسىقلىقنى بىر تەرەپ قىلغاندا ، يەر يۈزىنىڭ ئىقتىدارى بۇزۇلۇش ئاسان ئەمەس. ئېلېكتر ئىستانسىسىنىڭ كلاپانىغا كلاپان گەۋدىسىنىڭ ئوتتۇرا تۆشۈكىگە كوبالتتىن ياسالغان قېتىشما پۈركۈش كېرەك ، ئەگمە كەپشەرلەش ئارقىلىق يۇقىرى بېسىملىق دەرۋازا كلاپانى يۈز ھاسىل قىلىش كېرەك. يۈز كلاپان گەۋدىسىنىڭ ئوتتۇرا تۆشۈكىنىڭ چوڭقۇر يېرىدە بولغاچقا ، پۈركۈش كەپشەرلەش كەپشەرلەش تۈگمىسى ۋە يېرىلىش قاتارلىق كەمتۈكلۈكلەرنى كەلتۈرۈپ چىقىرىشى مۇمكىن.
تېيىز تۆشۈك پۈركۈش كەپشەرلەش d802 نىڭ جەريان سىنىقى تەلەپكە ئاساسەن ئەۋرىشكە ئىشلەپچىقىرىش ۋە پىششىقلاپ ئىشلەش ئارقىلىق ئېلىپ بېرىلدى. ئاسان ئېغىشنىڭ سەۋەبى جەريان سىناق ئۇلىنىشىدىن تېپىلدى.
يەر يۈزى مۇھىتىنىڭ بۇلغىنىشى.
¢ Ú كەپشەرلەش ماتېرىياللىرى نەملىكنى سۈمۈرۈۋالىدۇ.
¢ original ئەسلى ماتېرىيال ۋە تولدۇرغۇچى مېتال تەركىبىدە تېخىمۇ كۆپ بۇلغانمىلار ۋە ماي ​​داغلىرى بار.
¢ Ü كلاپان گەۋدىسىنىڭ كەپشەرلەش ئورنىنىڭ قاتتىقلىقى ئېلېكتر كەپشەرلەش ئارقىلىق چوڭ بولىدۇ (بولۇپمۇ dn32 ~ 50mm).
(5) ئىسسىنىش ۋە كەپشەرلەشتىن كېيىنكى ئىسسىقلىقنى بىر تەرەپ قىلىشنىڭ تېخنىكا ئۆلچىمى ئەقىلگە مۇۋاپىق ئەمەس.
كەپشەرلەش جەريانى مۇۋاپىق ئەمەس.
¢ ß كەپشەرلەش ماتېرىياللىرىنى تاللاش ئەقىلگە مۇۋاپىق ئەمەس. كوبالت ئاساسى قېتىشمىلىق پۈركۈش كەپشەرلەشتە ئېلېكتر ئىستانسىسىنىڭ كلاپان گەۋدىسىنىڭ يېرىلىپ كېتىشىدىكى ئاساسلىق سەۋەب ئادەتتە يۇقىرى كلاپاننىڭ قاتتىقلىقى. كەپشەرلەش مەشغۇلاتىدا ، ئەگمە ئېرىتىش كۆلچىكى ھاسىل قىلىدۇ ، بۇ كەپشەرلەش ئورنىنى داۋاملىق ئېرىتىدۇ ۋە قىزىتىدۇ ، كەپشەرلىگەندىن كېيىن تېمپېراتۇرا تېز تۆۋەنلەيدۇ ، ئېرىتىلگەن مېتال قويۇقلىشىپ كەپشەرلەيدۇ. ئەگەر ئىسسىنىش تېمپېراتۇرىسى تۆۋەن بولسا ، كەپشەرلەش قەۋىتىنىڭ تېمپېراتۇرىسىنى چوقۇم تېز تۆۋەنلىتىش كېرەك. كەپشەرلەش قەۋىتىنى تېز سوۋۇتۇش ئالدىنقى شەرتى ئاستىدا ، كەپشەرلەش قەۋىتىنىڭ تارىيىش نىسبىتى كلاپان گەۋدىسىنىڭ تارىيىش سۈرئىتىدىن تېز بولىدۇ. بۇ خىل بېسىمنىڭ تەسىرىدە ، كەپشەرلەش قەۋىتى ۋە ئەسلى ماتېرىيال تېزلىكتە ئىچكى جىددىيلىك بېسىمىنى شەكىللەندۈرىدۇ ، كەپشەرلەش قەۋىتى يېرىلىدۇ. كەپشەرلەش ئورنى ئىشلەپچىقارغاندا بەلۋاغ بۇلۇڭى چەكلىنىشى كېرەك.
ئىسسىنىش تېمپېراتۇرىسى بەك تۆۋەن بولۇپ ، كەپشەرلەش جەريانىدا ئىسسىقلىق تېز قويۇپ بېرىلىدۇ.
قاتتىق قەۋەتنىڭ تېمپېراتۇرىسى بەك تۆۋەن ، كەپشەرلەش قەۋىتىنىڭ توڭلىتىش سۈرئىتى پۈركۈش كەپشەرلەش خام ئەشياسى ئۈچۈن بەك تېز.
كەپشەرلەش ماتېرىيالى كوبالت قېتىشمىسىنىڭ ئۆزىدە قىزىل قاتتىقلىق دەرىجىسى يۇقىرى ، 500 ~ 700¡æ دە ئىشلىگەندە ، قۇۋۋىتى 300 ~ 500 ئات كۈچىنى ساقلىيالايدۇ ، ئەمما تەۋرىنىشچانلىقى تۆۋەن ، يېرىلىشقا چىدامچانلىقى ئاجىز ، خرۇستال يېرىق ياكى سوغۇق يېرىقلارنى ھاسىل قىلىش ئاسان ، شۇڭا كەپشەرلەشتىن بۇرۇن قىزىتىش كېرەك.
ئىسسىنىش تېمپېراتۇرىسى ئەسەرنىڭ چوڭ-كىچىكلىكىگە باغلىق ، ئادەتتىكى ئىسسىنىش دائىرىسى 350-500¡æ.
كەپشەرلەش ئېلېكترود قەۋىتىنى كەپشەرلەشتىن بۇرۇن مۇكەممەل ساقلاپ ، نەملىكنىڭ سۈمۈرۈلۈشىنىڭ ئالدىنى ئېلىش كېرەك.
كەپشەرلەش جەريانىدا ، تورت 150¡æ دە 1h غىچە پىشۇرۇلۇپ ، ئاندىن كەپشەرلەش سىم سىلىندىرغا سېلىنىدۇ.
ئەگمە r تېيىز تۆشۈك پۈركۈش كەپشەرلەش كەپشەرنىڭ بۇلۇڭى ئىمكانقەدەر چوڭ بولۇشى كېرەك ، ئەگەر بۇ جەريان رۇخسەت قىلسا ، ئادەتتە r¡Ý3mm.
dn10 ~ 25mm كالىبېرلىق كلاپان گەۋدىسى تېيىز تۆشۈكنىڭ ئاستىدىن كەپشەرلەش سىم بىلەن كەپشەرلەپ ، قاتتىق قەۋەتنىڭ تېمپېراتۇرىسى ¡50250 * (2 ، ئەگمە ئوتتۇرىدا ، ئەگمە شەكىللىك كەپشەرلەش سىمغا كاپالەتلىك قىلىدۇ).
مەھسۇلات ئەسەرلىرى كەپشەرلەشتىن بۇرۇن ئوچاقتا (250¡æ) 350 10 20¡ غىچە قىزىتىلدى. 1.5h ئىسسىقلىق ساقلاشتىن كېيىن ، كەپشەرلەش ئېلىپ بېرىلدى.
شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا قاتتىق قەۋەت تېمپېراتۇرىسى ¡50250c نى كونترول قىلىڭ ، كەپشەرلەش ئىزىنىڭ ئۇچىنى پۈركۈپ پۈركۈڭ. كەپشەرلىگەندىن كېيىن ، كلاپان گەۋدىسىنى دەرھال ئوچاققا (450¡æ) قويۇپ ، ئىسسىقلىق ساقلاش ۋە ئىزولياتورلۇق قىلىش كېرەك. ئوچاقنىڭ تېمپېراتۇرىسى ياكى كەپشەرلەش تېمپېراتۇرىسى 710¡À20¡æ غىچە ئۆچۈرۈلگەندە ، ئىسسىقلىق ساقلاش ۋە ئىزولياتور 2 سائەت تۇتۇپ ، ئاندىن ئوچاق بىلەن توڭلاتتى. تېمپېراتۇرىنى كونترول قىلىش dn 32 مىللىمېتىردىن چوڭ بولغاندا ، كلاپان گەۋدىسىنى ئالدى بىلەن ئاۋۇ شەكىلدە كەپشەرلەپ ، كوبالتنى ئاساس قىلغان قېتىشما كەپشەرلىگەندىن كېيىن بەك قاتتىق بولۇش سەۋەبىدىن كېلىپ چىققان تەكشى ئېلاستىكلىق مەسىلىسىنى ھەل قىلىش كېرەك. پۈركۈش كەپشەرلەش مەشغۇلاتىدىن ئىلگىرى ، مەھسۇلاتنىڭ ئەسەرلىرى تازىلىنىپ ، مەھسۇلات ئەسەرلىرى ئوچاققا سېلىنىدۇ (تېمپېراتۇرىنى كونترول قىلىش 250¡æ) ، 450 ~ 500 ¡غىچە قىزىتىلىدۇ ، ئىسسىقلىق ساقلاش ۋە 2 سائەت ساقلاش كېرەك ، كەپشەرلەش ئېلان قىلىنىدۇ .
ئالدى بىلەن ، پۈركۈش يۈزىنى كوبالتتىن ياسالغان قېتىشمىلىق كەپشەرلەش سىم بىلەن كەپشەرلەپ ، ھەر بىر قەۋەتنىڭ جاراھەت كەپشەرلەشنى تاماملاڭ. شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا ، ¡Ý250¡æ قەۋەتنىڭ تېمپېراتۇرىسىنى كونترول قىلىڭ ، ھەمدە ئاخىرلاشقاندىن كېيىن داغنى پۈركۈڭ.
ئاندىن مارسېنتىك داتلاشماس پولات سىم (يۇقىرى cr ، ni نىسپىي مەزمۇندىكى داتلاشماس پولات سىم) نى ئالماشتۇرۇپ U شەكىللىك كەپشەرلەش. كلاپان گەۋدىسىنىڭ توك كەپشەرلەش خىزمىتى تاماملانغاندىن كېيىن ، دەرھال (450¡æ) ئوچاققا سېلىنىپ ، ئىسسىقلىق ساقلاش ۋە ئىسسىقلىقنى ساقلاش كېرەك. بۇ تۈركۈم ياكى ئوچاقنىڭ توك كەپشەرلەش تاماملانغاندىن كېيىن ، تېمپېراتۇرا 720¡À20¡æ غا ئۆرلەيدۇ.
ئىسسىنىش نىسبىتى 150¡æ / h بولۇپ ، ئىسسىقلىق ساقلاش ۋاقتى 2 سائەت ساقلىنىدۇ.
ئېلېكتىرولىزلاش باكى ئىككى خىل ئېلېكتر سەۋىيىسىنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ ، ئومۇمىي مەھسۇلاتنىڭ ئەسەرلىرى كاتود بولۇپ ، ئېلېكتر سىتاتىك مەيدانى مېتال ئىئون ياكى تىئوكيانوگېن يىلتىزىنىڭ تەسىرىدە ۋە كاتود يۈزىگە يېقىنلاشقاندا ، ئېلېكتر قۇتۇبى مەيدانى قۇرۇلغاندىن كېيىن توكقا ئېرىشىدۇ. ئاتالمىش ​​قوش قەۋەت ھاسىل قىلىش ، بۇ خىل ئەھۋالدا ، كاتود ئەتراپىدىكى ئىئون قويۇقلۇقى رايوندىكىگە قارىغاندا كىچىكرەك بولۇپ ، كاتودنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ ، بۇ ئۇزۇن يوللۇق ئىئون يۆتكىلىشىنى كەلتۈرۈپ چىقىرىشى مۇمكىن.
مۇرەككەپ ئىئونلارنىڭ قويۇپ بېرىلىشى بىلەن قويۇپ بېرىلگەن مېتال مۇسبەت ئىئون ياكى تىئوكيانوگېن قوش قەۋەتكە ئاساسەن كاتود يۈزىگە يېتىپ كېلىپ ، ئوكسىدلىنىش رېئاكسىيەسى ھاسىل قىلىپ ، مېتال مولېكۇلا ھاسىل قىلىدۇ.
ئېلېكتىرولىزلاش جەريانى ئېلېكترلىشىش تارىخى بىر قەدەر بالدۇر ، تەتقىقات ۋە تەرەققىياتنىڭ بېشىدىكى يۈزنى بىر تەرەپ قىلىش جەريانى ئاساسلىقى كىشىلەرنىڭ چىرىشنىڭ ئالدىنى ئېلىش ۋە زىننەت بۇيۇملىرىنى چوقۇم قاندۇرۇش كېرەك.
يېقىنقى يىللاردىن بۇيان ، سانائەتلىشىش ۋە پەن-تېخنىكىنىڭ تەرەققىي قىلىشىغا ئەگىشىپ ، يېڭى ئىشلەپچىقىرىش جەريانىنىڭ ئۈزلۈكسىز تەرەققىي قىلىشى ، بولۇپمۇ بىر قىسىم يېڭى سىر ماتېرىياللىرى ۋە بىرىكمە تەخسە تېخنىكىسىنىڭ بارلىققا كېلىشى يەر يۈزىنى بىر تەرەپ قىلىش جەريانىنىڭ قوللىنىش دائىرىسىنى زور دەرىجىدە كېڭەيتىپ ، ئۇنى بارلىققا كەلتۈردى. يەر يۈزى قۇرۇلۇش لايىھىسىنىڭ كەم بولسا بولمايدىغان بىر قىسمى.
ئېلېكترلەشتۈرۈش جەريانى مېتال ئېلېكترودلاش تېخنىكىسىنىڭ بىرى. بۇ ئېلېكترولىز ئارقىلىق قاتتىق يۈزدىكى مېتال ئاليۇمىنغا ئېرىشىش جەريانى. ئۇنىڭ مەقسىتى قاتتىق خام ئەشيانىڭ يەر يۈزى ئالاھىدىلىكىنى ئۆزگەرتىش ، تاشقى قىياپىتىنى ياخشىلاش ، چىرىشكە قارشى تۇرۇش ئىقتىدارىنى ياخشىلاش ، چىرىشكە قارشى تۇرۇش ۋە سۈركىلىشكە چىداملىق بولۇش ياكى ئالاھىدە تەركىب ئالاھىدىلىكى بار مېتال ئوراش تەييارلاش. ئۆزگىچە ئېلېكتر ، ماگنىتلىق ، ئوپتىكىلىق ، ئىسسىقلىق ۋە باشقا يەر يۈزى ئالاھىدىلىكى ۋە باشقا جەريان خۇسۇسىيەتلىرىنى بېرىڭ.
ئومۇمەن قىلىپ ئېيتقاندا ، كاتودتىكى مېتال ئېلېكترودلاش جەريانى تۆۋەندىكى جەريانلاردىن تەركىب تاپقان1) لىتىيلىق باتارېيە ئېلېكتىرولىت تەركىبىدىكى ئالدىن ياسالغان مۇسبەت ئىئون ياكى ئۇلارنىڭ تىئوكيانوگېن يىلتىزىنىڭ ئىسسىقلىق تارقىتىش جەريانى قويۇقلۇقى پەرقى سەۋەبىدىن كاتود (مەھسۇلات خىزمەت قىسمى) يۈزىگە ياكى يۆتكىلىش يۈزىگە يۆتكىلىدۇ.2) مېتال مۇسبەت ئىئون ياكى ئۇلارنىڭ تىئوكيانوگېن يىلتىزىنىڭ يەر يۈزىگە ئايلىنىش جەريانى ئېلېكتر سەۋىيىسى يۈزىدە ۋە ئوكسىدلىنىش رېئاكسىيە جەريانىنىڭ يۈزىگە يېقىن سۇيۇقلۇق قەۋىتىدە ، مەسىلەن تىئوكيانوگېن لەگلەكنى ئايلاندۇرۇش ياكى ماسلاشتۇرۇش سانىنى ئازايتىش.3) فوتوئاكتىپلىق ئانالىز قىلىش جەريانىدىكى مېتال ئىئون ياكى تىئوكيانوگېن ئېلېكترونغا ئېرىشىش ئۈچۈن ، مېتال مولېكۇلاغا ئايلىنىدۇ 4) يېڭى باسقۇچنى شەكىللەندۈرۈش ، يەنى مېتال ياكى ئاليۇمىن قېتىشمىسى شەكىللەندۈرۈش. ئېلېكتىرولىزلاش باكىدا ئېلېكتر ئېنېرگىيىسى مەيدانى مېتال ئىئون ياكى تىئوكيانوگېن يىلتىزىنىڭ تەسىرىدە ۋە كاتودقا يېقىن جايدا ئېلېكتر ئېنېرگىيىسى مەيدانى قۇرۇلغاندىن كېيىن ، ئېلېكتر مەھسۇلاتلىرىنىڭ كاتود سۈپىتىدە ئادەتتىكى مەھسۇلات ئەسەرلىرى بار. يەر يۈزى ئاتالمىش ​​قوش قەۋەت ھاسىل قىلىدۇ ، ئاندىن ئىئون قويۇقلۇقى ئەتراپىدىكى كاتود بۇ رايوندىكى ئىئون قويۇقلۇقىدىن تۆۋەن بولۇپ ، كاتودنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ ، ئۇ ئىئوننىڭ ئۇزۇن يول يۆتكىلىشىنى كەلتۈرۈپ چىقىرىدۇ.
مۇرەككەپ ئىئونلارنىڭ قويۇپ بېرىلىشى بىلەن قويۇپ بېرىلگەن مېتال مۇسبەت ئىئون ياكى تىئوكيانوگېن قوش قەۋەتكە ئاساسەن كاتود يۈزىگە يېتىپ كېلىپ ، ئوكسىدلىنىش رېئاكسىيەسى ھاسىل قىلىپ ، مېتال مولېكۇلا ھاسىل قىلىدۇ.
كاتود يۈزىدىكى ھەر بىر نۇقتىدا مۇسبەت ئىئونلارنىڭ توك قاچىلاش ۋە قويۇپ بېرىش قىيىنلىقى ئوخشاش بولمايدۇ. خرۇستالنىڭ تۈگۈنى ۋە ئۆتكۈر بۇلۇڭىدا ، نۆۋەتتىكى كۈچلۈكلۈك ۋە ئېلېكتر سىتاتىك ھەرىكىتى كىرىستالنىڭ باشقا ئورۇنلىرىغا قارىغاندا كۆپ چوڭ. شۇنىڭ بىلەن بىر ۋاقىتتا ، خرۇستال تۈگۈن ۋە ئۆتكۈر بۇلۇڭغا جايلاشقان مولېكۇلا تويۇنمىغان ياغنىڭ سۈمۈرۈلۈش ئىقتىدارى تېخىمۇ يۇقىرى. بۇ يەردە بۇ يەردىكى توك قاچىلاش ۋە قويۇپ بېرىش مولېكۇلانىڭ رېشاتكا تۇراقلىقىنى شەكىللەندۈرىدۇ. بۇ ئاكتىپ ئىئوننىڭ ياقتۇرىدىغان توك قاچىلاش ۋە قويۇپ بېرىش ئورنى سىرلانغان مېتال خرۇستالنىڭ كۆزى.
كۆز كىرىستالنى بويلاپ كېڭىيىۋاتقاندا ، تاشقى ئىقتىسادىي پەلەمپەي بىلەن تۇتاشتۇرۇلغان بىر قەۋەت ئۆسۈش شەكىللىنىدۇ. كاتود مېتالنىڭ رېشاتكا تۇراقلىق يۈزىدە رېشاتكا تۇراقلىق كۈچى كېڭەيگەن يەر بېسىمى بار بولغاچقا ، كاتود يۈزىگە ئاستا-ئاستا چاپلانغان ئاتوملار پەرقنىڭ قانداق بولۇشىدىن قەتئىينەزەر ، يەر ئاستى مېتال (كاتود) نىڭ مولېكۇلا قۇرۇلمىسى بىلەن داۋاملاشقان قىسمىنىلا ئىگىلەيدۇ. رېشاتكىلىق تۇراقلىق گېئومېتىرىيە ۋە يەر ئاستى مېتال بىلەن سىرلانغان مېتال ئوتتۇرىسىدىكى ئۆلچەم. ئەگەر سىرلانغان مېتالنىڭ مولېكۇلا قۇرۇلمىسى ئاستىرتتىن كۆپ پەرقلەنسە ، ئۆسۈش كىرىستاللىشىشى ئۇلنىڭ مولېكۇلا قۇرۇلمىسى بىلەن ئوخشاش بولىدۇ ، ئاندىن ئاستا-ئاستا ئۆزىنىڭ نىسبەتەن مۇقىم بولغان مولېكۇلا قۇرۇلمىسىغا ئۆزگىرىدۇ. ئېلېكتىروئالۇۋىنىڭ مولېكۇلا قۇرۇلمىسى يىغىلىپ قالغان مېتالنىڭ كىرىستاللوگرافىك ئالاھىدىلىكىگە باغلىق ، تەشكىلىي قۇرۇلما مەلۇم دەرىجىدە ئېلېكتر كرىستاللاش جەريانىنىڭ ئالدىنقى شەرتىگە باغلىق. ئاليۇمىننىڭ ئىخچاملىقى پۈتۈنلەي ئىئوننىڭ قويۇقلۇقىغا ، توك ئېقىمى ۋە يەر يۈزىنىڭ يۈز قىسمىغا باغلىق ، ئېلېكتر كرىستالنىڭ خرۇستال چوڭ-كىچىكلىكى كۆپىنچە يەر يۈزىدىكى ئوپراتسىيە قويۇقلۇقىغا باغلىق.
ئىككى ، تاق مېتال تاختاي جەريانى يەككە مېتال تاختاي تاختايدىن كېيىن بىر خىل مېتال ئىئون بىلەن تاختاي ئېرىتمىسىنى كۆرسىتىدۇ.
كۆپ ئۇچرايدىغان يەككە مېتال تاختا جەريانلىرى ئاساسلىقى ئىسسىق سۇغا چىلاش ، مىس تاختاي ، نىكېل تاختاي ، داتلاشماس پولات تاختاي ، قەلەي تاختاي ۋە قەلەي تاختاي قاتارلىقلارنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ ، بۇ پولات زاپچاس ۋە باشقا چىرىشنىڭ ئالدىنى ئېلىش رولىنى ئوينايدۇ. زىننەتلەش لايىھىسى ۋە ئاجىزلىقنىڭ ئالاھىدىلىكىنى ياخشىلاش.
سىنىكنىڭ ئۆلچەملىك ئېلېكترود يوشۇرۇن كۈچى -0.76v. پولات ئاستىغا نىسبەتەن ، سىنىك سىرلاش سۇبانود ئوكسىدلىنىش قەۋىتى بولۇپ ، ئاساسلىقى پولات چىرىشنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ. ئېلېكتىروگاللاش جەريانى ئىككى تۈرگە بۆلىنىدۇ: فىزىكىلىق ئىسسىق سۇغا چىلاش ۋە سىئانىدسىز ئىسسىق سۇغا چىلاش.
فىزىكىلىق ئىسسىق سۇغا چىلاش گالۋاڭلاشتۇرۇش سۇ ئېرىتمىسى ، سىلىق ھەم نازۇك سىرلاش ، ياخشى ئىشلىتىش ، تەخسە ئېرىتمىسى مىكرو سىئانىد ، تۆۋەن سىئانىد ، ئوتتۇرا سىئانىد ۋە يۇقىرى سىئانىد قاتارلىق بىر نەچچە تۈرگە ئايرىلىدۇ.
ئەمما بۇ ماددا زەھەرلىك بولغاچقا ، يېقىنقى يىللاردا مىكرو سىئانىدنى تاللاشقا مايىل بولۇپ ، سىئانىد تاختا ئېرىتمىسى يوق.
سىئانىدسىز تەخسە ئېرىتمىسى كىسلاتا سىنىك فوسفات تەخسىسى ئېرىتمىسى ، تۇز تەخسىسى ئېرىتمىسى ، كالىي تىئوكيانات تەخسە ئېرىتمىسى ۋە ئېڭەكسىز فتور ئېرىتمىسى ئېرىتمىسىنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ.
1. قىسمەن ئىشقارلىق ئىسسىق چىلاش گالۋاڭلاشتۇرىدىغان سىر كىرىستال ئىنچىكە ، پارقىراق ، تاختا ئېرىتىش دەرىجىسى ۋە چوڭقۇر تەخسە ئىقتىدارى ياخشى ، نۆۋەتتىكى كۈچلۈكلۈك ۋە تېمپېراتۇرا دائىرىسىنى ئىشلىتىشكە يول قويىدۇ ، سىستېمىدا كىچىك چىرىتىش.
ئۇ مۇرەككەپ ئېلېكترلەشتۈرۈش جەريانى ۋە سىرنىڭ قېلىنلىقى 120¦Ìm دىن يۇقىرى زاپچاسلارغا ماس كېلىدۇ ، ئەمما تەخسە ئېرىتمىسىنىڭ ھازىرقى كۈچى بىر قەدەر تۆۋەن ۋە زەھەرلىك.
تاختا ھەل قىلىش لايىھىسى ۋە تەخسە ياساش جەريانىدا تۆۋەندىكى تەرەپلەرگە دىققەت قىلىش كېرەك: 1 each ھەر بىر زاپچاسنىڭ تەخسە ئېرىتمىسىدىكى قويۇقلۇقىنى قاتتىق كونترول قىلىش.
يۇقىرى سىئانىد ئىسسىق سۇغا چىلانغان گالۋاڭلاشتۇرۇلغان سۇ ئېرىتمىسىنىڭ ھەر بىر تەركىبلىرىنىڭ قويۇقلۇقى قىممىتىنى ساقلاش كېرەك: 2) مۇنچا ، ناترىي ھىدروكسىد ۋە گازغا مۇناسىۋەتلىك تەركىبلەرنىڭ ھەل قىلىنىشىغا دىققەت قىلىش كېرەك.
سۇلفىد تەركىبى 50 ~ 100g / L دىن ئېشىپ كەتسە ، تەخسە ئېرىتمىسىنىڭ ئۆتكۈزۈشچانلىقى تۆۋەنلەيدۇ ، توڭلىتىش ئۇسۇلىدا ئانود ئوكسىدلىنىشنىڭ پاسسىپلىق داۋالاش ئۇسۇلىنى قوللىنىش كېرەك (توڭلىتىش تېمپېراتۇرىسى -5¡æ ، ۋاقتى 8h دىن يۇقىرى ، كالىي كاربوناتنىڭ قويۇقلۇقى 30 ~ 40g / L غا تۆۋەنلەيدۇ). ياكى ئىئون ئالماشتۇرۇش ئۇسۇلى (تاختا ئېرىتمىسىگە ناترىي كاربونات ياكى بارىي ھىدروكسىد چۆكمىسى قوشۇش). 3) سوغۇق دومىلاشتۇرۇلغان پولات تاختاينىڭ ئانود ئوكسىدلىنىش ئۇسۇلى (سىنكنىڭ مىقدارى% 99.97) ئانود ئوكسىدلىنىش يەڭگە دىققەت قىلىشى ، ئانود لاينىڭ تەخسە ئېرىتمىسىدە لەيلەپ قېلىشىدىن ساقلىنىشى كېرەك ، بۇنداق بولغاندا سىرنىڭ سىلىق بولماسلىقى مۇمكىن.
4) فىزىكىلىق ئىسسىق سۇغا چىلانغان گالۋانلاشتۇرۇلغان ئېرىتمىنىڭ قالدۇق ماددىلارغا بولغان سەزگۈرلۈكى بىر قەدەر كىچىك ، ئۇنىڭ رۇخسەت قىلىنىدىغان مەزمۇنى: مىس 0.075 - 0.2g / L ، قوغۇشۇن 0.02 - 0.04g / L ، 0.05 - 0.15g / L ، قەلەي 0.05 - 0.1 g / L ، خىروم 0.015 - 0.025g / L ، تۆمۈر 0.15g / L¡¤ تاختا ئېرىتمىسىدىكى بۇلغانمىلارنى تۆۋەندىكى ئۇسۇللار بىلەن ھەل قىلغىلى بولىدۇ: 12.5-3g / L ناترىي سۇلفىدنى قوشسىڭىز ، ئۇ تۆمۈر بىلەن سۇلفىد چۆكمىسىنى ھاسىل قىلالايدۇ ۋە قوغۇشۇن ۋە باشقا ئاچقۇچلۇق مېتال مۇسبەت ئىئونلارنى چىقىرىۋېتىش: ئازراق سىنىك پاراشوكى قوشۇڭ ، بۇنداق بولغاندا مىس ۋە قوغۇشۇننى باكنىڭ ئاستىغا ئالماشتۇرۇپ ئېلىۋەتكىلى بولىدۇ: ھەل قىلىش چارىسىنىمۇ چېتىشقا بولىدۇ ، كاتودنىڭ نۆۋەتتىكى قۇۋۋىتى 0.1-0.2 A / cm2.
2 قىسمەن ئىشقار سىنىك فوسفات قىزىق چىلاش گالۋاڭلاشتۇرۇلغان قىسمەن ئىشقار سىنىك كىسلاتاسى ئىسسىق سۇغا چىلاش گالۋاڭلاشتۇرۇلغان مۇنچا تەركىبى ئاددىي ، ئىشلىتىشكە قۇلايلىق ، ئىنچىكە ۋە پارقىراق سىر ، سىرلاش ئاسان ئەمەس ، سىستېمىنىڭ كىچىك چىرىتىشى ، پاسكىنا سۇنى بىر تەرەپ قىلىشمۇ ناھايىتى ئاسان.
ئەمما تەكشى تاختاي سەۋىيىسىنىڭ تەخسە ئېرىتمىسى ۋە چوڭقۇر تەخسە ئىقتىدارى تاختا ئېرىتمىسىدىن ناچار ، نۆۋەتتىكى كۈچلۈكلۈك دەرىجىسى تۆۋەن (% 70 ~% 80) ، مەلۇم قېلىنلىق تەۋرىنىشنى ياخشىلايدۇ.