Vacuum sentinam applicata ad processum semiconductorem de rebus tutandis aquam anulum vacuum sentinamvalvaeLABIUM nexum
Super praeteritum decennium, cum celeri progressu technologiae semiconductoris, instrumenti semiconductoris etiam in generatione post generationem innovationem et progressionem est. Hodie, fabricatio et usus instrumenti semiconductoris varias elementa chemicae et plures alias rationes altae technicae artis secum fert, cum valida comprehensiva technica. Non solum ut talis, progressio semiconductoris instrumenti technologiae gradatim integrat processum technologiae modularisationum in apparatum, faciens illum valde automatum et valde intelligentem, paulatim mutato situ naturalium armorum et processuum separationis, et semper ambulans in fronte evolutionis. semiconductoris systematis industriam fabricandi, munus speciale magni ponderis ludendi. Cum ulteriore progressione instrumenti semiconductoris, eius applicatio campus magis ac magis dilatatur. In aliis instrumentis electronicis agrorum fabricandis, semiconductoris instrumenti seu instrumenti e semiconductoris evolutae, adoptantur etiam ad varios gradus, ut novus campus semiconductoris instrumenti applicationis fiat. Praesertim in machinis micro/nano electronicis, systematis optoelectromechanicis micro/nano et aliis productis campum parvae magnitudinis et magnae subtilitatis fabricandis, momentum habet magni ponderis ad electronicarum partium evolutionem.
Vacuum processus semiconductor maxime adhibetur in evaporatione, saliente, PECVD, vacuo arida engraving, vacuum adsorptionem, apparatum test, vacuum purgatio et aliae compages processus, productio semiconductor et processus fabricandi facile flammabiles, explosivae et toxici materiae gasi comminationem praebebunt. productio et baculus tutus, igitur, applicatio sentinae semiconductoris vacuum opus est attendere ad plura negotia salutis;
1. Filtrum et mundum vacuum sentinam et alia accessoria, sparguntur et fistulae in schedula ad vitandam pressionem:
In applicatione sentinam vacui semiconductoris, compositio medii extracti per cubiculi reactionem et sentinam vacuum potest esse valde multiplex. Exempli gratia, SiH4 et O2 formant SiO2 ad portum sentinam, et hydrolysis TiCl4 formabit HCl; Posito quod oleum sigillum speciei mechanicae sentinae, hae substantiae gasi cum oleo sentinae etiam converti possunt. Hae mutationes formationem particularum, materiam coagulabilem vel erosivam instrumentorum assumunt, quae systema vacuum sentinam vel fistulam inhibent, afficiunt functionem sentinam vacuum, oriuntur vel premendi causa, et periculum in secundo puncto maius est. Ergo necesse est in tempore mundare, et eliquare apparatum statuat necesse est.
II, efficax dilutio gasis noxii defectus:
Semiconductor pronus est ad supradictos vapores inflammabiles et explosivos, toxicos et noxios producendos. Itaque in applicatione sentinae vacui semiconductoris, cum haec media extrahendis, necesse est ne aliquas reactiones impotenti in vacuo sentinam vel in processu exhauriendo habeant. Ut SiH4, PH3, AsH3, B2H6, aliaeque substantiae, aeri vel oxygenio contactae, combustionem facient, vel etiam; Gas hydrogenium etiam ardet, cum ratio mixtionis in aere temperiem quandam attingit. Refert quantitatem substantiae et necessitudinis ad pressionem et temperiem ambitus. Cum ergo semiconductor vacuum has medias sentinam extrahit, indiget uti gas iners, ut nitrogen, ad hos vapores ad extensionem tuto ante compressionem diluendum.
3. attende ad unionem oxygeni:
Si dolor in aere nimis altus est, combustio et periculum occurret. Ergo in quibusdam casibus observandum est de intentione oxygenii, utendo gas iners ad diluendum, ne nimis retrahitur; Posito quod oleum sigillum mechanicae sentinae etiam opus est uti aliquo iners et oxygeni compatible oleum sentinarum vacuum, et opportune substituendi filorum olei et productorum olei.
IV, temperatura nimis alta prohibete;
Facile est hoc loco intelligere. In applicatione semiconductoris in sentinam vacuo, vapores nocentiores sunt. Utrum sentinam vacui vacui adhuc sigillum oleum mechanicum sentinam est, temperatura in antliae camera nimis alta est, et flammabilis et explosiva et du gas in caliditas facile periculosa erit.
Superiores 4 aspectus sunt principales res tutae in applicatione sentinam semiconductoris vacuum. In genere, oleum sigillum mechanicum soleatus operam dare opus est ad singulas res magis tutas quam siccas exhauriendas exhauriendas, dispositio magis implicata est. Cum soleatus vacuo utimur, operam dare debemus ad cautiones securitatis in conductore, et bonum opus in operatione manuali, cum postea utendo. Propter quaestiones parvas de operatione, output, efficientia et salute coniunguntur, debemus vitam vacui sentinam extendere, stateram componere stude, efficientiam et salutem curare.
Aqua anulum vacuum sentinam valvae nexum forma LABIUM
Secundum figuram superficiei iuncturae potest dividi in sequentia genera;
1, O-anulus typus: hoc novum genus aquae anuli vacuum sentinam connexionis formam LABIUM LABIUM sequitur, varios evolutionis globulus O-anulus, certius est in effectu obsignandi quam generalis fullonis fullonis.
II, genus sulcus trapezoidalis: aqua anulus vacuum sentinam valvae LABIUM connexionem cum anulo metallico ovali quasi fullonibus, adhibitis ad pressionis opus 64 kg/cm2 valvae vel caliditas valvae
3. Mortise genus et sulcus: Gasket cum magna deformatione plastica in medio corrosivo adhiberi potest. Effectus signandi anulum aquae vacuum sentinam melius est
4. Genus concavum et convexum: pressione aquae laboratae anuli vacuum antliae altioris, et fullonibus duris adhiberi potest
V, lens genus: sedator est figura lens, ex metallo facta. Princeps pressura valvulae vel caliditas valvulae cum operando pressione 100kg/cm2
6, genus lenis: nam pressio valvae altae non est, processus commodius
Anulus aquae vacuum sentinam nexum LABIUM multae formae sunt, sed varias occasiones habent in usu, attendere debemus ad opportunitatem opportunitatis, effectum nexum curare, nexum defectum non causare, consequens damnum aquae anulum vacuum sentinam
Post tempus: Jan-07-2023
